- Sections
- C - Chimie; métallurgie
- C25D - Procédés pour la production électrolytique ou électrophorétique de revêtements; galvanoplastie; jonction de pièces par électrolyse; appareillages à cet effet
- C25D 3/50 - Dépôt électrochimique; Bains utilisés à partir de solutions de métaux du groupe du platine
Détention brevets de la classe C25D 3/50
Brevets de cette classe: 180
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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General Electric Company | 18133 |
8 |
The Regents of the University of California | 18943 |
6 |
Umicore Galvanotechnik GmbH | 55 |
6 |
Composecure, LLC | 129 |
5 |
Howmet Corporation | 56 |
5 |
Johnson Matthey Public Limited Company | 1852 |
4 |
Rohm and Haas Electronic Materials LLC | 637 |
4 |
Safran Aircraft Engines | 5739 |
4 |
Second Sight Medical Products, Inc. | 80 |
4 |
Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | 589 |
4 |
Rtx Corporation | 8674 |
4 |
Centre National de La Recherche Scientifique | 9632 |
3 |
Medtronic MiniMed, Inc. | 1808 |
3 |
Lam Research Corporation | 4775 |
3 |
Commissariat à l'énergie atomique et aux energies alternatives | 10525 |
3 |
Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | 643 |
3 |
JX Nippon Mining & Metals Corporation | 1576 |
3 |
Heraeus Materials Singapore, PTE., Ltd. | 39 |
3 |
Sumitomo Electric Industries, Ltd. | 14131 |
2 |
Intel Corporation | 45621 |
2 |
Autres propriétaires | 101 |